负载离子束蚀刻&沉积系统
时间：2012年01月17日
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负载离子束蚀刻&沉积系统
The INTLVAC Nanoquest I负载离子束蚀刻&沉积系统是最普遍的离子束研发平台。可以独立控制的离子能量，离子电流密度与入射角，离子束加工是最可控的薄膜刻蚀和沉积技术。能够做从简单的惰性蚀刻到一个复杂的多层沉积用于洁净室操作，可以安装一个洁净室墙上。系统的组成部分，如水泵很容易操作。真空设计规则确保蚀刻模块和负载试验箱达到很低的基础压力的工艺。
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