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离子束刻蚀系统

时间:2012年01月17日

爱派克测试技术(上海)有限公司

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/Files/UploadFiles/ttmn.COM/2011/11/20111108-032332-719.gif离子束刻蚀系统 
 

离子束刻蚀系统:
离子束刻蚀系统是为无尘室操作而设计的,Nanoquest II使得蚀刻模块始终呆在无尘室的服务区内。系统元件,如防护物和其他耐用部件,很容易在服务区存取。双门蚀刻模块可以使维修从试验箱的任何一侧开始。UHV设计规则确保该蚀刻模块和负载锁定试验箱有较低的基地压力。高速真空泵不仅提供了快速泵,而且同时也减少了离子束气体的碰撞。

Intlvac 的Nanoquest II离子束刻蚀系统新整合了一个水冷旋转阶段,一个22厘米RF 离子源,一个不锈钢真空箱,低温高真空泵系统,自动水泵和通风口,高真空计大气,流量控制器,试验箱橱.

高性能:
带有150毫米和100毫米晶圆压盘的Nanoquest是专为较小型号晶圆板批处理加载碳涂层配置所设计。100毫米直径范围内的均匀性为± 3 %,晶圆与晶圆的可重复性± 2 % 。 Nanoquest是您加工的理想平台。
系统配置和布局:
真空箱是运用UHV可兼容装配技术,全部使用不锈钢材料建造而成,其外观经过电抛光处理,整洁,美观。连续的不锈钢冷却管道焊接在箱体外面,成网状,提供高效率的散热片。

离子束刻蚀系统:
◆ 单晶圆负载锁定离子束刻蚀系统可用于最大150毫米的晶圆。
◆ 用户可通过电感耦合等离子体屏栅离子源选择光束电压和电流密度。
◆ 在离子束的运行期间,基板阶段使得水冷系统在积极运作的同时旋转,倾斜。
◆ “低调的”无尘室界面把仪器箱和蚀刻模块放在无尘室墙壁后面。
 

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