离子束反应溅射系统
 

Intlvac的Nanoquest系统是薄膜和材料研究的一个通用研发平台.该系统是直径为4”单基板的最优选择. Nanoquest平台可允许:离子束蚀刻, 离子束溅射,离子辅助蒸发,以及离子辅助溅射都在同一平台 上运行．独特的设计与基板台，允许基板以360度的倾斜和旋转进行冷却或加热。该系统是安装在一个压缩的整块钢架上，钢架上带有一个整体电子机架，以尽量减少实验室或无尘室的空间。高真空的设计理念确保了快速周期时间和最低压力的性能。超高压气体分布确保了离子源操作的稳定性。

高真空泵:
闭合式循环泵与氦低温泵或涡轮增压拖动泵以及干式低真空泵一起使用使得系统实现了完全无油。
标准配置:
·尺寸：直径为20，长为20的气缸，装有铰接前门和焊接不锈钢冷却通道。基板台是安装的门。
·不锈钢架和完整的仪器架。机架固定在触摸屏PLC控制器上，用于自动抽水，压力控制，气体流量控制，以及离子源的操作。
Nanoquest 1400R
·用于反应气体操作的蚀刻系统：O2, N2
·除了为电子源使用一个空心阴极，或等离子中和剂之外，基本与惰性气体系统类似．

Nanoquest 1400
·为惰性气体操作而设计的蚀刻系统
·该系统有用于４，８或者１4厘米离子源，ＤＣ或者１4厘米ＲＦ离子源。
操作的离子源孔.
高流量，直接水冷2704阶段与用于四分之一晶圆和晶圆压板的干夹头安装。0 - 7rpm的阶段旋转，带手动角度倾斜。20 sccm超高压氩气线的气体流量控制。

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