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薄膜沉积系统
亿佩科测试技术(北京)有限公司
2011年11月08日 来源：中国纺机网编辑部
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薄膜沉积系统
Nanochrome TM II 采用了垂直“翻盖式”箱体设计，这使得试验箱的所有部件都很方便操作。水冷却/加热的痕迹（traces）加快抽水次数。在操作的同时，您可用潜望镜装置清晰地观察物理气相沉积的来源。试验箱有几个光学路径，可以观察薄膜增厚的过程，能确保实时测量以及控制光学涂层。
多重处理器选项
硬涂层 用于金属或离子辅助介质，金属的磁控溅射，或通过DC或AC反应溅射脉冲射频，电子束蒸发的，离子协助轻松配置到系统中。
低温运行： 潜在的热核聚变会限制沉积，许多薄膜冷却选项可以帮您增加沉积速率。在沉积薄膜时，使用Intlvac离子束基板台直接冷却基板。 随着冷却液直接在基板下循环，单或双轴自转运转。 高温选件 红外加热元件，石英灯阵列和氧气耐加热元件可供选择，以实现高达800°C温度。
用于辅助、反应性运行和预洗涤的离子源
Intlvac为NCII提供种类繁多的离子源。高光束电流和低能量非常适合薄膜致密，清洁，或辅助大的区域。我们提供的新一代的光源是您涂层的理想选择。终端通道栅格源，与高达10安培的离子电流量，在能量低于300eV 时组成栅格。 提供高达一安培RF源和100-1000eV可选择离子能。