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激光刻膜机

武汉三工光电设备制造有限公司

2011年11月08日　　来源：中国纺机网编辑部

SEF-G5：激光刻膜机产品特点: ? 半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器? 膜面朝上非接触式工作台? 直线电机驱动? 四路同步输出? 自动识别跟踪定位? 自动进出料? 在线监测? 静态显示技术参数: 型号规格 SEF-G5 有效加工幅面 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）最大运行速度 2000mm/s 重复定位精度 ±10μm 刻线直线度 ±10μm / 1000 mm 典型刻膜线宽 30～60μm 三线外沿总宽度 300～500μm 选项和配件：高标配，可根据需要移除不需要的部件。应用和市场：非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。

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