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第二届“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”公布消息

来源:世界服装鞋帽网 发布时间:2015年07月01日
 麦琴根/上海,上海外滩美术馆(RAM)与HUGO BOSS联合正式公布第二届“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”6位入围艺术家名单,他们分别是关小(中国大陆)、黄博志(台湾)、Vandy Rattana(万迪拉塔纳,柬埔寨)、Moe Satt(莫萨,缅甸)、Maria Taniguchi(谷口玛丽亚,菲律宾)以及杨心广(中国大陆)。此次入围名单的公布也彰显了新一届“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”在继续关注大中华地区的同时,亦将目光延伸至整个东南亚,关注不同地域文

  由上海外滩美术馆慎重挑选邀请的评审委员会是“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”决定性的组成部分,该委员会将提名、选择入围艺术家以及最终的获胜者。2015年的评审委员会关键性地集结了来自各个机构和独立个人的成员,他们都矢志不渝地关注和支持亚洲的艺术家与艺术项目。评委会由来自大中华、东南亚和国际重要艺术机构的知名馆长、策展人,以及来自大中华及东南亚地区的独立艺术家、策展人和批评家组成。他们深刻地洞见了今日亚洲当代艺术发展的紧迫性,并看到了面向未来的挑战,他们的参与势必会使这一奖项为亚洲当代艺术的发展做出更大的贡献。

  作为HUGO BOSS艺术项目的一部分,“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”致力于推动艺术实践与批判性思考,支持亚洲的全新文化挑战,鼓励审美、思想与文化的多样性。“‘HUGO BOSS亚洲新锐艺术家大奖‘是我们艺术赞助项目中的重要组成部分。我们非常乐于看到这个面向优秀年轻艺术家的平台又一次开放,尤其是在亚洲这一重要的文化环境中。“HUGO BOSS集团艺术项目负责人Hjördis Kettenbach博士表示。

  第二届“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”的参选作品来自十多个亚洲国家和地区的艺术家,此次六位入围艺术家群展将由上海外滩美术馆策划并执行,并于 2015年10月30日至2016年1月3日在上海外滩美术馆举办,届时将展出艺术家的代表作品以及为本次展览专门创作的新作。最终得奖名单将根据此次群展的评选于11月宣布,获奖艺术家将得到30万人民币奖金以支持其在今后的艺术发展。

  上海外滩美术馆馆长、“HUGO BOSS 亚洲新锐艺术家大奖”评审委员会主席拉瑞斯·弗洛乔对于奖项的立意做出了阐释,他指出, “‘HUGO BOSS亚洲新锐艺术家大奖’意图在各类挑战性的话题和上下文间发展出一种长期的、持续进行的、具有批判性的延伸、结合和对峙。我们认为亚洲是一种建构,也是一个尚需解答的问题,而非一个具有固定身份的地区。亚洲的多个组成部分都在不同层面上激活和分析了与其相关的、当下的变化,未来的发展,及对其历史构成的陈述。”

  通过介绍前沿的思想和实践,以多重角度、学科和领域来探究这一地区,同时特别聚焦于大中华区和东南亚的当代艺术的挑战,以及二者之间的关系。本届教育计划将于2015年8月至2016年6月在上海外滩美术馆举行,同时也会在东南亚入围艺术家的所在城市展开。全部活动结束后有关记录将于2016年结集出版。



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